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J-GLOBAL ID：200903021954375318

面状光学素子の製造方法

Inventor： 鈴木 基之 ,  内田 哲夫 ,  松浦 和夫
Applicant, Patent owner： 東レ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994072239
Publication number (International publication number)：1995281181
Application date： Apr. 11, 1994
Publication date： Oct. 27, 1995
Summary：

【要約】【構成】透明な平板基板上に硬化エネルギー線によって硬化する樹脂組成物によって面状光学素子を製造する方法であって、基板上に求める光学素子のパターンに対応した形状の硬化エネルギー線を吸収および/または反射する遮断層を設けた後、該遮断層上に光線もしくは電子線によって硬化する可視光に対して透明な樹脂組成物を塗布または積層し、基板の遮断層が形成された面の反対面側から硬化エネルギー線を照射する面状光学素子の製造方法。【効果】プラスティックフィルムなどの比較的寸法安定性の悪い基材を用いても、遮光帯とマイクロレンズなどの光学要素群が完全に位置適合した面状光学素子を、容易な方法で得ることができる。

Claim (excerpt)：

透明な平板基板上に硬化エネルギー線によって硬化する樹脂組成物によって面状光学素子を製造する方法であって、基板上に求める光学素子のパターンに対応した形状の硬化エネルギー線を吸収および/または反射する遮断層を設けた後、該遮断層上に光線もしくは電子線によって硬化する可視光に対して透明な樹脂組成物を塗布または積層し、基板の遮断層が形成された面の反対面側から硬化エネルギー線を照射することを特徴とする面状光学素子の製造方法。

IPC (3)：

G02F 1/1335 530 ,  F21V 5/04 ,  G02B 3/00