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J-GLOBAL ID：200903021962235266
エッジシーム疵の少ないステンレス鋳片の製造方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
中前 富士男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994217969
Publication number (International publication number)：1996057585
Application date： Aug. 18, 1994
Publication date： Mar. 05, 1996
Summary：
【要約】【目的】 溶鋼温度の低い条件下で鋳片を鋳造しても、鋳片の厚みのばらつきが少なく、圧延工程でエッジシーム疵を発生させることの少ないステンレス鋳片の製造方法を提供する。【構成】 断面四角形の鋳型15に浸漬ノズル11よりステンレス溶鋼17を供給しステンレス鋳片を連続して製造する方法において、鋳型15のメニスカスから下方200〜800mmの位置に鋳型15の幅方向に広がる略均等な磁束密度の磁石10を設け、かつメニスカス部13における前記鋳型15の幅方向の溶鋼温度偏差を10°C以下として操業を行う。
Claim (excerpt)：
断面四角形の鋳型に浸漬ノズルよりステンレス溶鋼を供給しステンレス鋳片を連続して製造する方法において、前記鋳型のメニスカスから下方200〜800mmの位置に該鋳型の幅方向に広がる略均等な磁束密度の磁石を設け、かつメニスカス部における前記鋳型の幅方向の溶鋼温度偏差を10°C以下として操業を行うことを特徴とするエッジシーム疵の少ないステンレス鋳片の製造方法。
IPC (3)：
B22D 11/00
, B22D 11/10
, B22D 11/10 350
