Pat
J-GLOBAL ID:200903021987145253

反射防止膜

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 土橋 皓
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996056158
Publication number (International publication number):1997249411
Application date: Mar. 13, 1996
Publication date: Sep. 22, 1997
Summary:
【要約】【課題】 光透過基材の表面に有用な反射防止効果を発揮させるための反射防止膜に関し、透明基材の耐衝撃性などの特性が損なわれることなく、かつ反射防止層の密着性が十分であり、画像の解像度が低下することがなく、しかも、容易に、生産性良く、低コストで得ることができるようにすることを目的とする。【解決手段】 シリコンアルコキシドと二酸化ケイ素微粉末を含有してなる分散液により形成された被膜において、該被膜の表面の高さが、0.01〜0.1 μmの微細な凹凸面を有するように構成する。
Claim (excerpt):
シリコンアルコキシドと二酸化ケイ素微粉末を含有してなる分散液により形成された被膜において、該被膜の表面に高さ0.01〜0.1 μmの微細な凹凸面を有していることを特徴とする反射防止膜。
IPC (5):
C01B 33/12 ,  B32B 5/00 ,  G02F 1/1335 ,  H01J 5/08 ,  H01J 29/88
FI (5):
C01B 33/12 C ,  B32B 5/00 ,  G02F 1/1335 ,  H01J 5/08 ,  H01J 29/88
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • 特開昭63-193101
  • 特開昭63-193101

Return to Previous Page