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J-GLOBAL ID：200903022003237060
反射型ホログラムによるパターン形成方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
京本 直樹 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996295571
Publication number (International publication number)：1998142806
Application date： Nov. 08, 1996
Publication date： May. 29, 1998
Summary：
【要約】【課題】 透過型のホログラム乾板の微細化が困難であるため、透過型ホログラムを用いたリソグラフィでは、極微細なパターンを形成することができない。従来よりも微細な平面又は立体パターンを基板上にホログラムを用いて形成する。【解決手段】 ホログラム乾板として反射型ホログラムを用いる。Si基板などで裏打ち、保持された反射型ホログラムに、レーザー光線、X線、電子線を照射し、その反射波によるホログラム再生像を用いてパターン形成を行う。ホログラムが反射型であるため、透過型ホログラムに比べ物理的強度に優れ、さらにごみの付着、ホログラムの物理的欠陥が多少生じてもパターン再生に支障をきたさない。またCVD技術と組み合わせ、3次元立体構造物の形成が可能。
Claim (excerpt)：
任意のパターンをもとに計算機合成により反射型ホログラムを作成し、前記ホログラムに光源を照射し、前記ホログラムからの反射波による再生像を用いてパターンを形成することを特徴とする反射型ホログラムによるパターン形成方法。
IPC (3)：
G03F 7/20 521
, G03F 1/08
, H01L 21/027
G03F 7/20 521
, G03F 1/08 Z
, H01L 21/30 528
