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J-GLOBAL ID：200903022016272271

半導体超微粒子の製造方法および組成物

Inventor： 高原 茂 ,  成瀬 功 ,  林 豊治 ,  八尾 浩史
Applicant, Patent owner： 三井東圧化学株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991181157
Publication number (International publication number)：1993024826
Application date： Jul. 22, 1991
Publication date： Feb. 02, 1993
Summary：

【要約】【構成】 カルコゲン化物半導体超微粒子を非水溶媒中で、その安定剤化存在下において、反応温度を制御して製造する方法、ならびにそれによって製造されるカルコゲン化物半導体超微粒子分散溶液より、溶媒を除去することにより得られる超微粒子/ポリマー組成物。【効果】 カルコゲン化物超微粒子の粒径分布が反応温度によって、任意に制御された半導体超微粒子およびその超微粒子/ポリマー組成物が得られる。

Claim (excerpt)：

非水溶媒中に、カルコゲン化物半導体超微粒子原料と製造されるカルコゲン化物半導体超微粒子の安定化剤を共存させ、反応温度を制御することによって、製造されるカルコゲン化物半導体超微粒子の粒径の粒径分布を任意に制御する半導体超粒子の製造方法。

IPC (5)：

C01G 1/12 ,  C01B 19/04 ,  G02F 1/35 503 ,  C09K 11/56 CPA ,  H01L 33/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭61-091005
  
• 特開昭61-010008