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J-GLOBAL ID：200903022030825267
2炉式流動層焼却炉
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
塩出 真一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993238984
Publication number (International publication number)：1995071731
Application date： Aug. 31, 1993
Publication date： Mar. 17, 1995
Summary：
【要約】【目的】 ガス化流動層炉のフリーボード部の圧力及び生成ガス焼却流動層炉のフリーボード部の圧力をほぼ大気圧に等しい一定値に制御して運転できるようにし、これにより、耐圧構造設計が不要で、炉内への外部空気の吸い込みを防止し、ごみを安定供給する。また、排ガス中の塩化水素を効率よく除去する。【構成】 投入された廃棄物をガス化して不燃物を排出するガス化流動層炉10のガス出口62と、このガス化流動層炉10の生成ガスを焼却し熱回収を行う生成ガス焼却流動層炉12のガス入口64とを、生成ガス送風機66を介して接続する。また、ガス化流動層炉に、塩素系化合物を含有する廃棄物をガス化する際に発生する塩化水素を除去するための脱塩剤の投入手段を設ける。
Claim (excerpt)：
投入された廃棄物をガス化して不燃物を排出するガス化流動層炉のガス出口と、このガス化流動層炉の生成ガスを焼却し熱回収を行う生成ガス焼却流動層炉のガス入口とを、生成ガス送風機を介して接続したことを特徴とする2炉式流動層焼却炉。
IPC (5)：
F23G 5/027 ZAB
, B01D 53/68
, F23G 5/30 ZAB
, F23G 5/30
, F27B 15/00
Cited by examiner (5)
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