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J-GLOBAL ID：200903022031125560

レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法

Inventor： 野崎 耕司 ,  武智 敏 ,  開元 裕子
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 青木 朗 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992156818
Publication number (International publication number)：1993346668
Application date： Jun. 16, 1992
Publication date： Dec. 27, 1993
Summary：

【要約】【目的】 放射線感光材料に関し、高感度で且つドライエッチング耐性が高く、露光放射線に対して透明な化学増幅型レジスト組成物を提供する。【構成】 本発明のレジスト組成物は、アクリル酸又はメタクリル酸3-オキソシクロヘキシル単量体単位【化1】を繰返し単位の一つとして含む共重合体と、酸発生剤とを含んでなる。

Claim (excerpt)：

下記一般式で表されるアクリル酸又はメタクリル酸3-オキソシクロヘキシル単量体を繰返し単位の一つとして含むことを特徴とする共重合体。【化1】

IPC (4)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/027 501 ,  H01L 21/027