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J-GLOBAL ID：200903022034322561

補助光投光装置

Inventor： 上田 浩 ,  杉谷 一三
Applicant, Patent owner： ミノルタ株式会社
Agent (1)： 佐野 静夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997194091
Publication number (International publication number)：1999038308
Application date： Jul. 18, 1997
Publication date： Feb. 12, 1999
Summary：

【要約】【課題】電源及び光源に無理を生じさせる事なく、且つ所定の焦点検出領域全てに十分な照度で補助光を投光する事ができる補助光投光装置を提供する。【解決手段】受光部の積分動作が始まると、軸上用補助光が補助光制御時間t1だけ点灯する。この時に高輝度を要する発光ダイオード光源に流れる電流は大電流であるので、発光ダイオード素子の電極として施されている金線のワイヤボンディングが発熱により溶けない時間をt1として定めてある。軸上用補助光が消灯すると、軸外用補助光が補助光制御時間t2だけ点灯する。このt2も上記t1と同様にして定めてある。この軸外用補助光が消灯すると、積分動作もほぼ同時に終了して次のDump動作に移行するよう定めてある。

Claim (excerpt)：

被写体からの光により焦点検出を行うに際し、該被写体に対して補助光を投光するための補助光投光装置であって、前記被写体上の複数の焦点検出領域に対応した複数の補助光光学系を構成する複数の光源は、互いに同時に点灯しないように点灯時間がずれている事を特徴とする補助光投光装置。

IPC (4)：

G02B 7/28 ,  G01C 3/06 ,  G03B 13/36 ,  G03B 15/02

FI (4)：

G02B 7/11 N ,  G01C 3/06 P ,  G03B 15/02 G ,  G03B 3/00 A