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J-GLOBAL ID：200903022035741436

水素化物ガスから不純物を除去する方法

Inventor： マルコ・スッチ ,  クラウディオ・ボッフィトー ,  カロリーナ・ソルチア
Applicant, Patent owner： サエス・ゲテルス・ソチエタ・ペル・アチオニ
Agent (1)： 倉内 基弘 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991197272
Publication number (International publication number)：1993170405
Application date： Jul. 12, 1991
Publication date： Jul. 09, 1993
Summary：

【要約】【目的】 ジシロキサンを含有するシランのような不純物含有水素化ガスから水素化物ガスの分解を起こさずに不純物を除去するための方法を提供する。【構成】 不純物の除去は、不純物含有ガスを水素化したゲッタ金属、例えばZr-V-Feゲッタ合金に接触させる。

Claim (excerpt)：

不純物含有水素化物ガスから不純物を除去する方法であって、(a)不純物含有水素化物ガスを、ガス浄化チャンバーと流通している、不純物含有ガスの入口に通す工程と、(b) 不純物含有水素化物ガスを上記ガス浄化チャンバー内に含まれる水素化されたゲッタ金属に接触させて不純物を除去し、ここにガス浄化チャンバーが浄化されたガスの出口と流通している工程と、(c) 浄化したガスを上記浄化したガスの出口を通す工程とを含む上記方法。

IPC (8)：

C01B 6/34 ,  B01D 53/02 ,  B01D 53/14 ,  B01J 20/02 ,  C01B 25/06 ,  C01B 33/04 ,  C01C 1/02 ,  C22C 16/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭58-120511
  
• 特開昭60-016802
  
• 特開昭62-003010