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J-GLOBAL ID：200903022047076560
スパッタリング装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
青木 朗 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992048475
Publication number (International publication number)：1993247635
Application date： Mar. 05, 1992
Publication date： Sep. 24, 1993
Summary：
【要約】【目的】 本発明はスパッタリング装置に関し、簡単且つ小型な構成でスパッタ金属の回り込みを防止可能としたスパッタリング装置を実現することを目的とする。【構成】 真空チャンバー1の中に、スパッタ電源7に接続したターゲット8と、該ターゲット8の周囲に設けられたシールド筒9と、ウエハ18を載置するウエハステージ6とを具備して成るスパッタリング装置において、上記ウエハステージ6に載置されたウエハ18を囲むことができ、且つ上下に可動な可動シールド筒21を設けて成るように構成する。
Claim (excerpt)：
真空チャンバー(1)の中に、スパッタ電源(7)に接続したターゲット(8)と、該ターゲット(8)の周囲に設けられたシールド筒(9)と、ウエハ(18)を載置するウエハステージ(6)とを具備して成るスパッタリング装置において、上記ウエハステージ(6)に載置されたウエハ(18)を囲むことができ、且つ上下に可動な可動シールド筒(21)を設けて成ることを特徴とするスパッタリング装置。
Patent cited by the Patent：
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