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J-GLOBAL ID：200903022080347170

ガス処理装置

Inventor： 大井 健史 ,  堀口 剛司 ,  菊永 敏之
Applicant, Patent owner： 三菱電機株式会社
Agent (1)： 高田 守 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995040365
Publication number (International publication number)：1996229345
Application date： Feb. 28, 1995
Publication date： Sep. 10, 1996
Summary：

【要約】【目的】 アンモニア等の有害ガスを必要とせず、かつ処理ガスのガス組成が処理効率に及ぼす影響が小さく、さらに2次廃棄物を生成することなく、効率良く処理ガス中の被処理成分を分解して無害化するガス処理装置を提供する。【構成】 被処理成分を含む処理ガスを導入して被処理成分を吸着材4に吸着する吸着部、および吸着材4に吸着されたまたは吸着材に吸着され脱着された被処理成分を処理ガスが導入され続けない状態での放電により分解処理する放電部を備えた。吸着部3と放電部は同じ空間であり、この吸着および放電空間に被処理成分を含む処理ガスを導入して被処理成分を吸着材に吸着し、処理ガスの導入を停止して吸着材に吸着された被処理成分を放電により分解処理する。また、吸着部の下流に放電部を配置すると共に、吸着材に吸着された被処理成分を脱着する手段を備えた。

Claim (excerpt)：

被処理成分を含む処理ガスを導入して上記被処理成分を吸着材に吸着する吸着部、および上記吸着材に吸着されたまたは吸着材に吸着され脱着された被処理成分を処理ガスが導入され続けない状態での放電により分解処理する放電部を備えたガス処理装置。

IPC (3)：

B01D 53/32 ZAB ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/81 ZAB

FI (2)：

B01D 53/32 ZAB ,  B01D 53/34 ZAB A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特公昭57-060053
  
• 特開平4-317720
  
• 特開平4-305225