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J-GLOBAL ID：200903022084870748

走査露光方法および走査型露光装置並びにマスク

Inventor： 宮崎 聖二 ,  篠崎 忠明
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 志賀 正武 (外5名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000113132
Publication number (International publication number)：2001296667
Application date： Apr. 14, 2000
Publication date： Oct. 26, 2001
Summary：

【要約】【課題】 有効露光領域が大型化して描画誤差の傾向の異なる部分が存在しても、パターンの像を高精度に基板に投影露光する。【解決手段】 マスクMと基板とを投影光学系に対して相対的に同期移動させて、基板にマスクMのパターンを投影露光する走査露光方法において、マスクMには、同期移動方向に沿う第1の方向にパターンを挟むようにマーク43a〜43f、44a〜44fが複数形成されており、投影光学系を介して複数のマーク43a〜43f、44a〜44fの投影された像を計測して、その結果に基づいて投影光学系の結像特性を求め、所定の結像特性になるように投影光学系を調整する。

Claim (excerpt)：

マスクと基板とを投影光学系に対して相対的に同期移動させて、前記基板に前記マスクのパターンを投影露光する走査露光方法において、前記マスクには、前記同期移動方向に沿う第1の方向に前記パターンを挟むようにマークが複数形成されており、前記投影光学系を介して前記複数のマークの投影された像を計測して、その結果に基づいて前記投影光学系の結像特性が所定の結像特性になるように調整することを特徴とする走査露光方法。

IPC (3)：

G03F 7/20 501 ,  G03F 9/00 ,  H01L 21/027

FI (4)：

G03F 7/20 501 ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 518 ,  H01L 21/30 525 W

F-Term (11)：

2H097AA03 ,  2H097KA03 ,  2H097KA12 ,  2H097KA13 ,  2H097LA12 ,  5F046BA05 ,  5F046DA12 ,  5F046DB10 ,  5F046EB02 ,  5F046FC04 ,  5F046FC06