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J-GLOBAL ID：200903022085535713

高周波グロー放電発光分光分析における光干渉補正方法

Inventor： 古味 秀人
Applicant, Patent owner： 株式会社島津製作所
Agent (1)： 竹本 松司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998118594
Publication number (International publication number)：1999311605
Application date： Apr. 28, 1998
Publication date： Nov. 09, 1999
Summary：

【要約】【課題】 フーリエ変換を用いて干渉光変動を除去して光干渉補正を行う光干渉補正方法において、測定区間から変動除去に最適な補正区間を設定し、補正区間においてフーリエ変換に適したフーリエ変換処理区間を設定し、これによって、干渉光変動を高い精度で除去する。【解決手段】 高周波グロー放電発光分光分析によって光透過性薄膜を測定してその測定データを求め(ステップS1)、光干渉補正を行うために、測定区間から光干渉補正を行う補正区間を定め(ステップS2)、定めた補正区間において、干渉光補正を行って光干渉による光強度変動を除去し(ステップS3)、光干渉補正した補正データ(図2(b)中の直流分)に基づいて、光透過性薄膜等の試料の元素濃度を求める(ステップS4)。補正区間は、測定データから干渉光の周期特性に基づいて求め、また、補正区間において、フーリエ変換に適しかつ補正の精度が高い区間長の処理データ区間を用いて光干渉補正を行う。

Claim (excerpt)：

光非透過性基板上に光透過性薄膜を備える試料に対して、高周波グロー放電によって試料表面をスパッタリングしながら原子発光を分光検出し、元素分析を行う高周波グロー放電発光分光分析において、測定データをフーリエ変換して周波数変換スペクトルを求め、該周波数変換スペクトルから干渉光に対応する周波数成分の強度変化を求めて光干渉補正を行う補正区間を定め、該補正区間内の測定データに対して光干渉補正を行う、高周波グロー放電発光分光分析における光干渉補正方法。