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J-GLOBAL ID：200903022085935240

スパッタリング装置

Inventor： 板垣 克則 ,  内山 智雄 ,  金 京植 ,  細川 直吉
Applicant, Patent owner： 日電アネルバ株式会社
Agent (1)： 鈴木 利之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992358027
Publication number (International publication number)：1994192833
Application date： Dec. 25, 1992
Publication date： Jul. 12, 1994
Summary：

【要約】【目的】 マグネトロンカソード電極の矩形平板状のターゲットの背面に複数の矩形の磁石ユニットを配置することにより、比較的大型の矩形基板を静止した状態で良好な薄膜を形成できるようにし、ターゲットの不均一消耗や、薄膜の不均質性や、パーティクルの発生を防ぐ。【構成】 カソード電極20の内部には、構成の等しい5個の磁石ユニット44があり、各磁石ユニット44は、中心磁石41と周辺磁石42とヨーク43とからなる。これら磁石ユニット44はその長辺が互いに隣り合うように並べて配置される。磁石ユニット44の間及び5個の磁石ユニット44の全体の外側には磁気シールド49があり、これら磁石ユニット44と磁気シールド49は磁石固定台座48に固定される。磁気シールド49は各磁石ユニット44の間の磁場の相互干渉を防ぐ。

Claim (excerpt)：

内部を真空状態にする排気系を備えた真空容器と、この真空容器の内部に配置され、成膜処理される基板を取り付ける基板保持部材と、前記基板に対して対向する位置関係で配置され、前記基板に成膜する矩形平面状タ-ゲットを備えた少なくとも1つのマグネトロンカソ-ド電極と、前記真空容器の内部にガスを流通させて内部圧力を適切に維持するガス制御系と、前記マグネトロンカソ-ド電極に電力を供給する電源系とを含むスパッタリング装置において、次の特徴を備えるスパッタリング装置。(a)前記マグネトロンカソード電極は、矩形平面状の一つのターゲットの背面に複数の磁石ユニットを備える。(b)前記磁石ユニットは、ターゲット表面に平行な断面形状が矩形であり、その長辺が隣の磁石ユニットの長辺と隣り合うように、複数の磁石ユニットが配置される。(c)前記磁石ユニットの寸法及び磁極配置は、同一のマグネトロンカソード電極に含まれるすべての磁石ユニットにおいて、互いに等しい。(d)前記磁石ユニットは、ターゲットの表面上に環状の電子ドリフト運動軌跡を生じさせるような構造である。(e)隣り合う磁石ユニットの間に磁気シールド壁が配置される。

IPC (2)：

C23C 14/35 ,  C23C 14/54

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平2-025566
  
• 特開平2-225667
  
• 特開平3-243761
  
• 特開昭61-034177