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J-GLOBAL ID：200903022094603624

フォトレジストの乾燥方法

Inventor： 竹内 寛
Applicant, Patent owner： 松下電器産業株式会社
Agent (1)： 小鍜治 明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994164040
Publication number (International publication number)：1996031725
Application date： Jul. 15, 1994
Publication date： Feb. 02, 1996
Summary：

【要約】【目的】 本発明は、マイクロ波による誘電加熱で効率よくフォトレジストを乾燥する方法を提供することを目的とする。【構成】 均一にマイクロ波を照射するベーク炉により、フォトレジストを塗布した基板にマイクロ波を照射し、フォトレジストの自己発熱によりフォトレジスト中に含まれる溶剤を蒸発、乾燥させる。フォトレジスト自身の発熱を利用するため、微弱なエネルギーで効率よく均一に乾燥することができる。

Claim (excerpt)：

基板上に塗布されたフォトレジストを露光前に乾燥する方法であって、前記フォトレジストが塗布された基板をマイクロ波に晒して加熱することを特徴とするフォトレジストの乾燥方法。

IPC (4)：

H01L 21/027 ,  F26B 3/347 ,  F26B 23/08 ,  G03F 7/38 501

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭57-154831
  
• 特開昭62-299037