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J-GLOBAL ID:200903022106619360

電子線分析方法及びその分析装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 佐々木 功 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997053008
Publication number (International publication number):1998253557
Application date: Mar. 07, 1997
Publication date: Sep. 25, 1998
Summary:
【要約】【課題】電子基板等の被検査試料の表面の不純物及び被検査試料界面の分子結合状態を評価できる電子線分析方法及びその分析装置を提供する。【解決手段】真空チャンバー内で被検査試料の表面を間接的なプラズマでエッチングしてから、室温で又は特定の温度に加熱した後に被検査試料の表面に電子線を照射し、その照射された被検査試料の表面から放出される電子又はイオンをモニターするようにする。
Claim (excerpt):
真空チャンバー内で被検査試料の表面を間接的なプラズマでエッチングしてから、室温で又は特定の温度に加熱した後に被検査試料の表面に電子線を照射し、その照射された被検査試料の表面から放出する電子又はイオンをモニターするようにしたことを特徴とする電子線分析方法。
IPC (2):
G01N 23/225 ,  H01J 37/252
FI (3):
G01N 23/225 ,  H01J 37/252 Z ,  H01J 37/252 B

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