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J-GLOBAL ID：200903022111689392
X線反射プロファイル測定方法及び装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
鵜沼 辰之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992123611
Publication number (International publication number)：1993322804
Application date： May. 15, 1992
Publication date： Dec. 07, 1993
Summary：
【要約】【目的】 1回の試料調整で同時に多数点のX線反射プロファイルの測定を可能にするX線反射プロファイル測定方法及び装置を提供する。【構成】 ライン状のX線源1と、X線源1から出射するX線束の形状、発散性を制限するスリット系(4、5)と、該X線束を単色化するX線単色器6と、試料11へ入射するX線束の大きさを制限するスリット8と、試料傾斜・位置調整装置9及び試料角度走査機構10と、試料で反射されたX線束の強度を該試料上の位置の関数としてX線束の幅方向に計測する検出スリット12付きX線検出器14と、検出器走査機構13とこれらを制御する制御装置(図示せず)とで構成される。
Claim (excerpt)：
シート状X線束を生成し、該シート状X線束を単色化すると共に、該単色化されたシート状X線束を試料に照射し、該試料に入射されるシート状X線束と試料とのなす角度に応じて試料からの反射シート状X線束が幅方向に分割して計測可能なX線検出手段により検出されるように前記試料の角度を走査しかつ該試料の角度の変化に応じてX線検出手段の検出部の位置を一定の関係に基づいて移動させることを特徴とするX線反射プロファイル測定方法。
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (7)
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