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J-GLOBAL ID：200903022147529430

光学素子の連続製造法

Inventor： 石川 博康 ,  山梨 輝昭 ,  穂崎 憲二 ,  市塚 敏博
Applicant, Patent owner： 日本石油化学株式会社
Agent (1)： 前島 肇
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993287740
Publication number (International publication number)：1995120748
Application date： Oct. 22, 1993
Publication date： May. 12, 1995
Summary：

【要約】【目的】 液晶高分子層を安定して転写することができ、液晶高分子の細片による欠陥や歪によるクラック等の問題を生じない光学素子の製造法を提供する。【構成】 配向基板フィルム/液晶高分子層/硬化接着剤層/透光性基板フィルムからなる長尺の積層フィルムの幅方向の両端縁を、液晶高分子層と硬化接着剤層とが重なり合う部分において長手方向に切断した後、配向基板フィルムのみを剥離する。

Claim (excerpt)：

長尺の配向基板フィルム上に形成された長尺の液晶高分子層を接着剤を介して長尺の透光性基板フィルム上に転写することにより光学素子を製造するに際し、長尺の配向基板フィルム上に形成された該液晶高分子層と長尺の透光性基板フィルムとを接着剤により接着することにより得られた配向基板フィルム/液晶高分子層/硬化接着剤層/透光性基板フィルムからなる長尺の積層フィルムの幅方向の両端縁を、液晶高分子層と硬化接着剤層とが重なり合う部分において長手方向に切断した後、該配向基板フィルムのみを剥離することを特徴とする光学素子の連続製造法。

IPC (5)：

G02F 1/1335 510 ,  G02B 5/30 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/13 500 ,  G02F 1/1337