Pat
J-GLOBAL ID:200903022177455945

X線発生方法およびX線発生装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 三品 岩男 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992051866
Publication number (International publication number):1993258692
Application date: Mar. 10, 1992
Publication date: Oct. 08, 1993
Summary:
【要約】【目的】室温で気体また液体の標的材料を、不純物を含まないように固体化し、この固体化した標的材料を用いて再現性良く、高効率にX線を発生させることのできるX線発生装置を提供する。【構成】レーザ光または電子線を入射させる入射口118aと、X線を出射する出射口118bとを有する容器101と、前記容器内を真空に排気する真空排気手段114を有し、前記容器内に配置された標的材料に前記レーザ光または電子線120を照射しプラズマを生成してX線を発生するX線発生装置において、液体または気体の材料を前記真空容器内に導く材料導入手段117aと、前記真空容器内で前記材料を冷却して固体の標的材料を作製する冷却手段105と、前記固体の標的材料を付着させ、これを保持する基板104とを備えたことを特徴とする。
Claim (excerpt):
レーザ光または電子線を入射させる入射口と、X線を出射する出射口とを有する容器と、前記容器内を真空に排気する真空排気手段を有し、前記容器内に配置された標的材料に前記レーザ光または電子線を照射しプラズマを生成してX線を発生するX線発生装置において、液体または気体の材料を前記真空容器内に導く材料導入手段と、前記真空容器内で前記材料を冷却して固体の標的材料を作製する冷却手段と、前記固体の標的材料を付着させ、これを保持する基板とを備えたことを特徴とするX線発生装置。
IPC (4):
H01J 35/22 ,  G21K 1/00 ,  H05G 2/00 ,  H05H 1/24
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
  • 特開昭64-006349
  • 特開昭64-006349
  • 特開昭62-268048
Show all

Return to Previous Page