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J-GLOBAL ID:200903022180603726

超短パルス電子回折装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 清水 守
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000289154
Publication number (International publication number):2002098655
Application date: Sep. 22, 2000
Publication date: Apr. 05, 2002
Summary:
【要約】【課題】 フエムト秒領域での試料の分子構造の変化の実時間追跡を可能にすることができる超短パルス電子回折装置を提供する。【解決手段】 超短パルス電子回折装置において、超短パルスレーザー光発生装置1と、この超短パルスレーザー光発生装置1からの超短パルスレーザー光が照射される陰極3と、この陰極3から発生する電子パルスeを加速し、短い電子パルスeを得る加速装置4と、前記短い電子パルスeを試料ガス6に作用させる相互作用領域(相互作用部)5と、この相互作用領域5における電子回折像を観測する手段とを具備する。
Claim (excerpt):
(a)超短パルスレーザー光発生装置と、(b)該超短パルスレーザー光発生装置からの超短パルスレーザー光が照射される陰極と、(c)該陰極から発生する電子パルスを加速し、短い電子パルスを得る加速装置と、(d)前記短い電子パルスを試料に作用させる相互作用部と、(e)該相互作用部における電子回折像を観測する手段とを具備することを特徴とする超短パルス電子回折装置。
F-Term (17):
2G001AA03 ,  2G001AA07 ,  2G001BA08 ,  2G001BA18 ,  2G001CA03 ,  2G001DA01 ,  2G001DA09 ,  2G001FA21 ,  2G001GA01 ,  2G001HA12 ,  2G001HA13 ,  2G001JA11 ,  2G001JA14 ,  2G001KA08 ,  2G001MA01 ,  2G001MA05 ,  2G001SA02

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