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J-GLOBAL ID：200903022189113314

X線反射型マスク

Inventor： 和佐 若菜 ,  清水 澄人 ,  村上 勝彦
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995098426
Publication number (International publication number)：1996293450
Application date： Apr. 24, 1995
Publication date： Nov. 05, 1996
Summary：

【要約】【目的】 経時変化による多層膜の反射率低下を防止したX線反射型マスクを提供すること。【構成】 少なくとも、基板上1に設けたX線反射多層膜2と、さらに該多層膜2上に所定パターンにて設けたX線吸収層3とを有するX線反射型マスクにおいて、前記多層膜2及び吸収層4の上に、化学的または物理的に安定な物質、或いは光学定数の経時変化が小さい物質の被覆層4を形成してなることを特徴とするX線反射型マスク。

Claim (excerpt)：

少なくとも、基板上に設けたX線反射多層膜と、さらに該多層膜上に所定パターンにて設けたX線吸収層とを有するX線反射型マスクにおいて、前記多層膜及び吸収層の上に、化学的に安定な物質、或いは光学定数の経時変化が小さい物質の被覆層を形成してなることを特徴とするX線反射型マスク。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16 ,  G21K 1/06

FI (3)：

H01L 21/30 531 M ,  G03F 1/16 A ,  G21K 1/06 B