気相分解方法および分解装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：高橋敬四郎 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993088433
Publication number (International publication number)：1994302581
Application date： Apr. 15, 1993
Publication date： Oct. 28, 1994
Summary：

【要約】【目的】半導体ウエハの表面のSiO2 膜のエッチングに関し、SiO2 膜のエッチング速度を容易に、かつ安定に制御することが可能な気相分解技術を提供することを目的とする。【構成】本発明の気相分解装置は、開口を有する弗酸水溶液容器の内部を加熱するための加熱手段と、処理対象物を載置し、冷却するための冷却手段と、弗酸ガスを対象物上に供給するため、前記容器の開口に接続された弗酸水溶液側ガス供給系と、前記弗酸水溶液側ガス供給系と、前記冷却手段の上部とを接続し、弗酸ガスを対象物上に供給するための対象物側ガス供給系とを有する。

Claim (excerpt)：

弗酸水溶液を加熱して弗酸水蒸気を発生させる工程と、前記弗酸水蒸気を冷却した対象物上に供給し、対象物表面のSiO2 膜をエッチングする工程とを含む気相分解方法。

IPC (6)：

H01L 21/306 , C01B 33/12 , C04B 41/91 , H01L 21/302 , H01L 21/304 341 , C23F 1/12

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (6)

基板表面の洗浄方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-336307 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
特開平4-134818
特開平4-065125

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Cited by examiner (9)

基板表面の洗浄方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-336307 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
特開平2-192750
特開平4-134818

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