Pat
J-GLOBAL ID:200903022212389152
内燃機関の排気浄化装置
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
石田 敬 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996204867
Publication number (International publication number):1998047041
Application date: Aug. 02, 1996
Publication date: Feb. 17, 1998
Summary:
【要約】【課題】 NOX を良好に浄化する。【解決手段】 内燃機関の気筒を第1および第2の気筒群1a, 1bに分割し、第1の気筒群1aをさらに第1および第2の副気筒群1aa, 1abに分割する。各副気筒群1aa, 1abの排気枝管8内にNOX 吸蔵還元触媒12a, 12bを配置する。NOX 吸蔵還元触媒12a, 12bと、第2の気筒群1bとを合流させて排気浄化触媒10に接続する。NOX 吸蔵還元触媒12a に流入する排気の排気空燃比をリッチにすることによりNOXを放出させてNH3 を生成する。このNH3 は排気浄化触媒10において第2の気筒群1bから排出されたNOX を浄化する。NOX 吸蔵還元触媒12b に流入する排気の排気空燃比をリーンにすることによりNOX を吸蔵させる。NOX 吸蔵還元触媒12a の吸蔵NOX 量が下限しきい値を越えて低下したらNOX 吸蔵還元触媒12a, 12bに流入する排気の排気空燃比をそれぞれリーンおよびリッチにする。
Claim (excerpt):
多気筒内燃機関が第1の気筒群と第2の気筒群とに分割されており、第1の気筒群の排気中のNOX からNH3 を生成し、該NH3 により第2の気筒群の排気中のNOX を浄化するようにした内燃機関の排気浄化装置において、第1の気筒群が少なくとも2つの副気筒群にさらに分割されており、各副気筒群に接続された各副排気通路内に、流入する排気の排気空燃比がリッチのときに流入する排気中のNOX からNH3 を生成するNH3 生成触媒と、流入する排気の排気空燃比がリーンのときに流入する排気中のNOX を吸蔵し、流入する排気の排気空燃比がリッチとなると吸蔵しているNOX を放出する吸蔵材とを配置し、各NH3 生成触媒はそれぞれ対応する吸蔵材下流の副排気通路内または該吸蔵材内に配置されており、NH3 生成触媒下流の各副排気通路と、第2の気筒群に接続された第2の排気通路とを合流させる合流排気通路内に、流入する排気中のNOX とNH3 とを浄化する排気浄化触媒を配置し、吸蔵材上流の副排気通路内または副気筒群内に、それぞれ対応する吸蔵材に流入する排気の排気空燃比をリッチまたはリーンにする排気空燃比制御手段をそれぞれ配置し、少なくとも第2の気筒群にリーン運転を行わせ、排気空燃比制御手段を制御して一部の吸蔵材に流入する排気の排気空燃比をリッチにすることにより該吸蔵材から吸蔵されているNOX を放出させる共に該吸蔵材下流のNH3 生成触媒においてNH3 を生成し、それによって排気浄化触媒にNH3 を供給し、残りの吸蔵材に流入する排気の排気空燃比をリーンにすることにより該吸蔵材にNOX を吸蔵させ、流入する排気の排気空燃比がリッチである吸蔵材を順次変更することにより排気浄化触媒にNH3 を常時供給するようにした排気浄化装置。
IPC (11):
F01N 3/24
, F01N 3/24 ZAB
, F01N 3/08 ZAB
, F01N 3/10 ZAB
, F01N 3/28 ZAB
, F01N 3/28 301
, F01N 3/28
, F02D 41/04 ZAB
, F02D 41/04 305
, F02D 43/00 301
, F02D 43/00
FI (12):
F01N 3/24 R
, F01N 3/24 G
, F01N 3/24 ZAB C
, F01N 3/08 ZAB A
, F01N 3/10 ZAB A
, F01N 3/28 ZAB
, F01N 3/28 301 C
, F01N 3/28 301 A
, F02D 41/04 ZAB
, F02D 41/04 305 A
, F02D 43/00 301 T
, F02D 43/00 301 E
Return to Previous Page