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J-GLOBAL ID：200903022238827450

基板処理装置

Inventor： 上山 勉 ,  足立 秀喜 ,  松村 吉雄
Applicant, Patent owner： 大日本スクリーン製造株式会社
Agent (1)： 吉田 茂明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993343898
Publication number (International publication number)：1994338555
Application date： Dec. 16, 1993
Publication date： Dec. 06, 1994
Summary：

【要約】【目的】 適正なサイズでかつ各単位処理部の処理順序を自由に変えることが可能であり、被処理基板の搬送効率が高い基板処理装置を提供すること。【構成】 単位処理部HP6,CP3,SC,...が2段3層に分かれて配置されている。水平X方向に移動可能で、かつ被処理基板の垂直Z方向の搬送と単位処理部への被処理基板の出し入れのためのアーム機構を有する基板搬送機構101〜103が設けられる。これらの基板搬送機構101〜103には被処理基板を保持するハンドが設けられ、水平方向のアーム機構によって単位処理部への被処理基板の出し入れが行われる。【効果】 単位処理部の多段配置によって床面積などのサイズが小さくなり、各単位処理部の処理順序を自由に変えることも可能である。基板搬送機構10がXYZの3方向の搬送自由度を有するため、被処理基板の搬送が効率的となる。

Claim (excerpt)：

被処理基板を搬送しつつ前記被処理基板に対して一連の処理を行うための基板処理装置であって、複数の単位処理部が水平方向に配列されてなる処理列を複数列備え、前記複数の処理列が垂直方向に重なるように配設されて多段処理列とされるとともに、各処理列に沿った前記被処理基板の水平搬送と前記垂直方向における前記被処理基板の垂直搬送とを行う搬送機構が前記多段処理列に付設され、前記水平搬送と前記垂直搬送とのうち、少なくとも前記水平搬送は前記多段処理列に対向する搬送路に沿って実行されることを特徴とする基板処理装置。

IPC (3)：

H01L 21/68 ,  B65G 49/07 ,  G02F 1/13 101

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭52-139378
  
• 特開昭60-084819
  
• 特開平1-209737