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J-GLOBAL ID：200903022274890028

ウエハ洗浄装置

Inventor： 前林 宏典
Applicant, Patent owner： 株式会社リコー
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995347410
Publication number (International publication number)：1997162145
Application date： Dec. 13, 1995
Publication date： Jun. 20, 1997
Summary：

【要約】【課題】 ウエハ面内の洗浄均一性を高めることができる、自公転式ブラシを備えたウエハ洗浄装置を提供する。【解決手段】 スキャンアーム5に洗浄ブラシ4を自転可能に設け、洗浄ブラシ4を、スピンモーター3により自転するウエハ1の表面に接触させるとともに自転および公転させることにより、ウエハ1の表面を洗浄するようにしたウエハ洗浄装置において、スキャンアーム5の公転方向の角度を検出するスキャンアーム位置検出センサー8と、前記角度からウエハ表面上の洗浄ブラシ位置を演算するとともに、前記洗浄ブラシ位置と、あらかじめ求めておいた洗浄ブラシ位置とウエハの最適回転速度の関係とから、スピンモーター3の最適回転速度を求める演算回路9と、この演算回路9からの信号によりスピンモーター3の回転速度を前記最適回転速度に制御するスピンモーター駆動回路10とを設ける。

Claim (excerpt)：

洗浄ブラシを自転および公転させながら、自転するウエハの表面に接触させてウエハ表面を洗浄するようにしたウエハ洗浄装置において、前記洗浄ブラシの公転角度を検出する位置検出手段を設けたことを特徴とするウエハ洗浄装置。