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J-GLOBAL ID：200903022287887891

配線遅延を考慮した配線マスク製造装置

Inventor： 上里 英樹
Applicant, Patent owner： 株式会社リコー
Agent (1)： 野口 繁雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993032702
Publication number (International publication number)：1994224302
Application date： Jan. 27, 1993
Publication date： Aug. 12, 1994
Summary：

【要約】【目的】 各配線部ごとに最適な線幅とスペースをマスクレイアウト上で実現する。【構成】 マスクレイアウト手段2では情報入力手段1から入力された図形に従ってマスクレイアウトを作成し、最適ライン・スペース計算手段3でマスクレイアウトパターンから配線部のデータを検出し、各配線部における抵抗値と容量値とからRC遅延が最小になる最適ライン・スペースを求める。レイアウト・データ変更手段4では各配線部のライン・スペースがそれぞれの計算された最適ライン・スペースになるようにマスクレイアウトを変更する。

Claim (excerpt)：

情報入力手段から入力された図形に従ってマスクレイアウトを作成するマスクレイアウト手段と、作成されたマスクレイアウトパターンから配線部のデータを検出し、各配線部における抵抗値と容量値とからRC遅延が最小になる最適ライン・スペースを求める最適ライン・スペース計算手段と、各配線部のライン・スペースがそれぞれの計算された最適ライン・スペースになるように、前記マスクレイアウトを変更するレイアウト・データ変更手段とを備えた配線マスク製造装置。

IPC (3)：

H01L 21/82 ,  G03F 1/08 ,  G06F 15/60 370