照合装置

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：長谷川芳樹 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993295684
Publication number (International publication number)：1995146941
Application date： Nov. 25, 1993
Publication date： Jun. 06, 1995
Summary：

【要約】【目的】本発明は、入力パターンと参照パターンの一致を高い精度で検出できる照合装置を提供することを目的とする。【構成】入力パターンと参照パターンの相関演算が相関演算手段(30)で行われ、その結果得られる相関値が判定手段(50)に与えられて、入力パターンと参照パターンが同一のパターンであるかが判定される。この判定は、参照パターンを複製して得られる複数の参照パターン間の自己相関強度に応じて定められたしきい値と、相関演算手段(30)で得られた相関値との比較により行われる。

Claim (excerpt)：

新たに入力した入力パターンと既に登録された参照パターンが同一のパターンであるかを判定する照合装置において、前記参照パターンの自己相関演算を行い、その結果得られる自己相関強度に応じたしきい値を定めるしきい値設定手段と、前記入力パターンと前記参照パターンの相関演算を行う相関演算手段と、前記相関演算手段から得られる相関値と前記しきい値設定手段から得られるしきい値を比較して、前記入力パターンと前記参照パターンが同一パターンか判定する判定手段とを備えることを特徴とする照合装置。

IPC (3)：

G06T 7/00 , G02B 27/46 , G06T 1/00

FI (3)：

G06F 15/62 460 , G06F 15/64 G , G06F 15/70 460 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開昭59-144982
特開昭59-144982
特開平4-171510

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