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J-GLOBAL ID：200903022315741938

原水供給制御手段を備えた晶析反応装置および該装置を用いた晶析処理方法

Inventor：
矢野 理江

About 矢野 理江


Applicant, Patent owner：
オルガノ株式会社

About オルガノ株式会社


Agent (1)： 千田 稔 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001100050
Publication number (International publication number)：2002292204
Application date： Mar. 30, 2001
Publication date： Oct. 08, 2002
Summary：
【要約】【課題】 原水供給制御手段を備えた晶析反応装置および該装置を用いた晶析処理方法。【解決手段】 内部に種晶2が充填され、原水から晶析対象成分を除去する晶析反応を行う晶析反応糟1と、該原水を晶析反応糟1に供給する原水供給手段と、晶析用薬液を晶析反応糟1に供給する晶析用薬液供給手段と、晶析反応糟1から排出される処理水の少なくとも一部を晶析反応糟1に返送する処理水循環手段とを具備する晶析反応装置において、処理水および/または原水中の晶析対象成分の濃度を測定する濃度測定手段5、5’と、該濃度測定手段5、5’によって測定された濃度に応じて、該原水供給手段から晶析反応糟1に供給される原水の量を制御する原水供給制御手段12、12’とをさらに具備することを特徴とする前記晶析反応装置を提供する。
Claim (excerpt)：
内部に種晶が充填され、原水中の晶析対象成分が低減された処理水を排出する晶析反応糟と、該原水を該晶析反応糟に供給する原水供給手段と、晶析用薬液を該晶析反応糟に供給する晶析用薬液供給手段と、該晶析反応糟から排出される処理水の少なくとも一部を該晶析反応糟に返送する処理水循環手段とを具備する晶析反応装置において、処理水および/または原水中の晶析対象成分の濃度を測定する濃度測定手段と、該濃度測定手段によって測定された濃度に応じて、該原水供給手段から該晶析反応糟に供給される原水の量を制御する原水供給制御手段とをさらに具備することを特徴とする前記晶析反応装置。
IPC (9)：
B01D 9/02 625 ,  B01D 9/02 ,  B01D 9/02 601 ,  B01D 9/02 602 ,  B01D 9/02 603 ,  B01D 9/02 608 ,  C02F 1/58 ,  C02F 1/58 ZAB ,  C02F 1/62
FI (11)：
B01D 9/02 625 D ,  B01D 9/02 625 E ,  B01D 9/02 601 B ,  B01D 9/02 601 C ,  B01D 9/02 601 E ,  B01D 9/02 602 E ,  B01D 9/02 603 D ,  B01D 9/02 608 A ,  C02F 1/58 M ,  C02F 1/58 ZAB S ,  C02F 1/62
F-Term (17)：
4D038AA08 ,  4D038AB41 ,  4D038AB45 ,  4D038AB48 ,  4D038AB64 ,  4D038AB65 ,  4D038AB66 ,  4D038AB67 ,  4D038AB68 ,  4D038AB69 ,  4D038AB71 ,  4D038AB72 ,  4D038AB73 ,  4D038AB74 ,  4D038AB76 ,  4D038AB88 ,  4D038BA06
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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