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J-GLOBAL ID：200903022326342105

マイクロレンズアレイ及びその製造方法並びに光学装置

Inventor：
西川 尚男

About 西川 尚男

, 
高桑 敦司

About 高桑 敦司

, 
吉澤 睦美

About 吉澤 睦美


Applicant, Patent owner：
セイコーエプソン株式会社

About セイコーエプソン株式会社


Agent (1)： 井上 一 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001085377
Publication number (International publication number)：2002283361
Application date： Mar. 23, 2001
Publication date： Oct. 03, 2002
Summary：
【要約】【課題】 両方のレンズ面の位置合わせが簡単なマイクロレンズアレイを製造する方法及びその方法により製造されるマイクロレンズアレイ並びに光学装置を提供することにある。【解決手段】 マイクロレンズアレイの製造方法は、第1の光透過性層26上に第2の光透過性層36を形成することを含む。第1の光透過性層26は、複数の凹部28と各凹部28の区画面32とを有し、各凹部28の内面の少なくとも一部はレンズ面30である。第2の光透過性層36を、第1の光透過性層26の区画面32を避けて凹部28に形成する。第2の光透過性層36の表面を、各凹部28ごとにレンズ面38を有するように形成する。
Claim (excerpt)：
第1の光透過性層上に第2の光透過性層を形成することを含み、前記第1の光透過性層は、複数の凹部と各凹部の区画面とを有し、各凹部の内面の少なくとも一部はレンズ面であり、前記第2の光透過性層を、前記第1の光透過性層の前記区画面を避けて前記凹部に形成し、前記第2の光透過性層の表面を、前記第1の光透過性層の各凹部ごとにレンズ面を有するように形成するマイクロレンズアレイの製造方法。
IPC (6)：
B29C 39/10 ,  B29C 39/24 ,  B29D 11/00 ,  G02B 3/00 ,  B29K101:10 ,  B29L 11:00
FI (6)：
B29C 39/10 ,  B29C 39/24 ,  B29D 11/00 ,  G02B 3/00 A ,  B29K101:10 ,  B29L 11:00
F-Term (38)：
4F204AA21L ,  4F204AA44 ,  4F204AB04 ,  4F204AD04 ,  4F204AD05 ,  4F204AF01 ,  4F204AH75 ,  4F204EA03 ,  4F204EA04 ,  4F204EB11 ,  4F204EB28 ,  4F204EB29 ,  4F204EF01 ,  4F204EK17 ,  4F204EK18 ,  4F213AA03 ,  4F213AA16 ,  4F213AA21 ,  4F213AA28 ,  4F213AH75 ,  4F213WA02 ,  4F213WA43 ,  4F213WA53 ,  4F213WA56 ,  4F213WA60 ,  4F213WA87 ,  4F213WA97 ,  4F213WB01 ,  4F213WB11 ,  4F213WB22 ,  4F213WC01 ,  4F213WE02 ,  4F213WE21 ,  4F213WF01 ,  4F213WF27 ,  4F213WK05 ,  4F213WW01 ,  4F213WW33
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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