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J-GLOBAL ID：200903022335143247
ITO膜の形成方法及び液晶表示素子の製造方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
山本 孝久
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992075832
Publication number (International publication number)：1993242745
Application date： Feb. 28, 1992
Publication date： Sep. 21, 1993
Summary：
【要約】【目的】ITO膜の結晶化を十分進行させ、且つITO膜中に含まれる酸素のばらつきを無くしあるいは少なくすることができ、これによって安定した特性を有するITO膜を形成し得るITO膜の形成方法、及びかかるITO膜の形成方法を適用した液晶表示装置の製造方法を提供する。【構成】ITO膜の形成方法は、スパッタリング法によって成膜されたITO膜30上に水素を含有する膜32を形成した後、熱処理することを特徴とする。あるいは又、スパッタリング法によって成膜されたITO膜を水素ガス雰囲気中で熱処理することを特徴とする。また、このITO膜の形成方法を適用して液晶表示装置の画素電極を形成する。
Claim (excerpt)：
スパッタリング法によって成膜されたITO膜上に水素を含有する膜を形成した後、熱処理することを特徴とするITO膜の形成方法。
IPC (5)：
H01B 13/00 503
, C23C 14/58
, G02F 1/1343
, G09F 9/30 337
, H01B 5/14
