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J-GLOBAL ID：200903022341970210

層間膜の平坦化方法

Inventor： 高木 浩 ,  金子 博幸
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Agent (1)： 尾川 秀昭
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994095789
Publication number (International publication number)：1995283218
Application date： Apr. 08, 1994
Publication date： Oct. 27, 1995
Summary：

【要約】【目的】 流動性を増すための不純物を含有した絶縁膜からなる層間膜3を、これに対してリフロー処理を施すことにより平坦化する層間膜の平坦化方法において、層間膜3の表面に生じた表面変質層3aによりリフロー処理による平坦化効果が低減するのを防止する。【構成】 リフロー前処理として、層間膜3の表面の表面変質層3aをライトエッチングにより除去しSC洗浄(例えば常温SC洗浄)による洗浄をする。

Claim (excerpt)：

流動性を増すための不純物を含有した絶縁膜からなる層間膜を、これに対してリフロー処理を施すことにより平坦化する層間膜の平坦化方法において、リフロー処理よりも前に上記層間膜の表面変質層を除去するライトエッチング工程を有することを特徴とする層間膜の平坦化方法

IPC (2)：

H01L 21/3205 ,  H01L 21/768

FI (3)：

H01L 21/88 K ,  H01L 21/90 P ,  H01L 21/90 R