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J-GLOBAL ID:200903022344039568

反射防止コーティング組成物及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 合田 潔 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993158296
Publication number (International publication number):1994075378
Application date: Jun. 29, 1993
Publication date: Mar. 18, 1994
Summary:
【要約】【目的】 本発明の目的は、フォトリソグラフィ技術における露光工程で反射防止層として働く高分子染料の組成物と、その製造方法を提供することにある。【構成】 本発明の組成物は、1つまたは複数のアミノ芳香族発色団と、アンハイドライド基を有する重合体との反応生成物を含む。
Claim (excerpt):
少なくとも1つのアミノ芳香族発色団と、アンハイドライド基を含む重合体とのイミド反応生成物を含む、皮膜形成組成物。
IPC (6):
G03F 7/11 503 ,  C08F 8/32 MHL ,  C09D 5/00 PPQ ,  C09D133/26 PFW ,  G02B 1/10 ,  H01L 21/027
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
  • 特開昭62-180360
  • 特開昭60-088939
  • 特開平4-051518
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