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J-GLOBAL ID：200903022353754792

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント及びめっきレジストの製造法

Inventor： 太田 文彦 ,  石丸 敏明 ,  中野 昭夫 ,  土川 信次
Applicant, Patent owner： 日立化成工業株式会社
Agent (1)： 若林 邦彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992082569
Publication number (International publication number)：1993281733
Application date： Apr. 06, 1992
Publication date： Oct. 29, 1993
Summary：

【要約】【目的】 アルカリ現像性と耐無電解銅めっき性を両立するとともに、可とう性に優れた感光性エレメント及びレジストが得られる感光性樹脂組成物を提供する。【構成】 下記一般式(I)で示される単位を有するポリヒドロキシエーテル樹脂化合物の水酸基にエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイドを付加させた後、多塩基酸無水物を反応させ、その生成物と(メタ)アクリル酸グリシジルエステルとを反応させて得られるポリヒドロキシエーテル樹脂化合物、酸無水物変性エポキシアクリレート化合物、末端エチレン基を2個以上含む光重合性不飽和化合物及び光開始剤を有してなる感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント及びめっきレジストの製造法。【化1】(R2及びR3はアルキル基、アルコキシ基又はハロゲンであり、x及びyは、それぞれ独立に0〜4の整数を表す)

Claim (excerpt)：

(a)一般式(I)【化1】〔式中、R1は2価の飽和脂肪族炭化水素基を表し、R2及びR3はそれぞれ独立に炭素原子数1〜4のアルキル基、炭素原子数1〜4のアルコキシ基又はハロゲン原子を表し、x及びyはそれぞれ独立に0〜4の整数である〕で示される単位を有するポリヒドロキシエーテル樹脂中の水酸基に対してエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイドをモル比(エチレンオキサイド又はプロピレンオキサイド/水酸基)が1〜10の範囲となるように反応させて得られるポリヒドロキシエーテル樹脂化合物中の水酸基に対して飽和又は不飽和の多塩基酸無水物をモル比(酸無水物/水酸基)が0.8〜1.05の範囲となるように反応させて得られるカルボキシル基含有ポリヒドロキシエーテル樹脂化合物中のカルボキシル基に対して一般式(II)【化2】〔式中、R4は水素原子又はメチル基を表す〕で示される不飽和エポキシ化合物をモル比(エポキシ基/カルボキシル基)が0.1〜0.3の範囲となるように反応させて得られるカルボキシル基含有不飽和ポリヒドロキシエーテル樹脂化合物20〜40重量部、(b) オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂及びハロゲン化フェノールノボラック型エポキシ樹脂からなる群から選ばれる少なくとも1種のノボラック型エポキシ樹脂と不飽和カルボン酸とを、モル比(酸/エポキシ)が0.5〜1.05の範囲となるように反応させて得られる不飽和化合物に飽和又は不飽和の多塩基酸無水物を反応させて得られる酸無水物変性エポキシアクリレート化合物45〜75重量部、(c) 末端にエチレン基を少なくとも2個有する光重合性不飽和化合物5〜20重量部(ただし(a)成分、(b)成分及び(c)成分の総量を100重量部とする)及び(d) 活性光の照射により遊離ラジカルを生成する光開始剤0.01〜20重量部(ただし(a)成分、(b)成分及び(c)成分の総量100重量部に対して)を含有してなる感光性樹脂組成物。

IPC (6)：

G03F 7/032 ,  C08F299/02 MRV ,  G03F 7/027 515 ,  G03F 7/028 ,  H01L 21/027 ,  H05K 3/06