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J-GLOBAL ID：200903022353983716

毛髪処理用組成物

Inventor： 難波 富幸 ,  小山 和彦
Applicant, Patent owner： 株式会社資生堂
Agent (1)： 岩橋 祐司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993207167
Publication number (International publication number)：1995041417
Application date： Jul. 28, 1993
Publication date： Feb. 10, 1995
Summary：

【要約】【構成】 下記一般式化1【化1】[上記化1中、R及びRaは各々同一又は異る炭素数1〜8の炭化水素基を示す。R1〜R6は各々同一又は異なり、少なくとも一つが一般式化2【化2】-R7-O-G(化2中、R7は炭素数2〜20の有機基を示し、Gは単糖、オリゴ糖ないしは多糖から誘導される糖残基を示す。)で表わされる有機基を示し、残りが炭素数1〜8の炭化水素基又はヒドロキシ基を示す。m及びnの平均値は、同一又は異なる0又は正数を示し、且つ1≦m+n≦1000である。]で表わされる糖残基を有するオルガノポリシロキサン誘導体の一種又は二種以上と、第四級アンモニウム塩の一種又は二種以上と、を配合したことを特徴とする毛髪処理用組成物。【効果】 優れた毛髪損傷修復性とともに、眼瞼刺激性がきわめて低くすることが可能となる。

Claim (excerpt)：

下記一般式化1【化1】[上記化1中、R及びRaは各々同一又は異る炭素数1〜8の炭化水素基を示す。R1〜R6は各々同一又は異なり、少なくとも一つが一般式化2【化2】-R7-O-G(化2中、R7は炭素数2〜20の有機基を示し、Gは単糖、オリゴ糖ないしは多糖から誘導される糖残基を示す。)で表わされる有機基を示し、残りが炭素数1〜8の炭化水素基又はヒドロキシ基を示す。m及びnの平均値は、同一又は異なる0又は正数を示し、且つ1≦m+n≦1000である。]で表わされる糖残基を有するオルガノポリシロキサン誘導体の一種又は二種以上と、第四級アンモニウム塩の一種又は二種以上と、を配合したことを特徴とする毛髪処理用組成物。

IPC (2)：

A61K 7/06 ,  A61K 7/08