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J-GLOBAL ID：200903022361529013

ネガ型レジスト組成物

Inventor： 井上 昌章 ,  大田 利幸 ,  勇元 喜次 ,  三浦 孝夫
Applicant, Patent owner： 日本合成ゴム株式会社
Agent (1)： 大島 正孝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991319742
Publication number (International publication number)：1993134411
Application date： Nov. 08, 1991
Publication date： May. 28, 1993
Summary：

【要約】【構成】アリルフェノールをモノマー成分として得られるアルカリ可溶性樹脂と感放射線性酸形成剤またはアジド基(-N3)含有化合物を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。【効果】本発明のネガ型レジスト組成物は、位相シフトリソグラフィープロセスに好適であり、現像液による膨潤がなく、感度、解像度に優れたレジストとして好適に使用できる。

Claim (excerpt)：

アリルフェノールをモノマー成分として得られるアルカリ可溶性樹脂100重量部および感放射線性酸形成剤0.01〜15重量部を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。

IPC (5)：

G03F 7/038 505 ,  G03F 7/008 ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/038 501 ,  H01L 21/027