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J-GLOBAL ID：200903022363335879

ゼオライト化改質土の製造方法及びゼオライト化改質土の製造システム並びにゼオライト化改質土

Inventor：
芳賀 鉄郎

About 芳賀 鉄郎

, 
圓佛 伊智朗

About 圓佛 伊智朗


Applicant, Patent owner：
株式会社日立製作所

About 株式会社日立製作所


Agent (1)： 作田 康夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003113559
Publication number (International publication number)：2004315322
Application date： Apr. 18, 2003
Publication date： Nov. 11, 2004
Summary：
【課題】本発明の第一の目的は、陽イオン交換容量(CEC値)が高く、製造コスト低減が可能なゼオライト化改質土の製造方法及びゼオライト化改質土の製造システムを提供することにある。本発明の第二の目的は、付加価値の高いゼオライト化改質土を提供することにある。【解決手段】第一の目的は、無焼成浄水発生土にシリカ源を含有するアルカリ剤を混合して水熱合成反応を行い、前記発生土からゼオライト化改質土を製造することにより達成される。或いは、第二の目的は、強熱減量を指標した有機物を含有することにより達成される。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
無焼成浄水発生土にシリカ源を含有するアルカリ剤を混合して水熱合成反応を行い、前記発生土からゼオライト化改質土を製造することを特徴とするゼオライト化改質土の製造方法。
IPC (2)：
C01B39/02 ,  C02F11/00
FI (2)：
C01B39/02 ,  C02F11/00 C
F-Term (13)：
4D059AA03 ,  4D059BE01 ,  4D059BJ01 ,  4D059BK30 ,  4D059CC10 ,  4D059DA14 ,  4D059EB06 ,  4G073CZ53 ,  4G073DZ03 ,  4G073FB36 ,  4G073FB45 ,  4G073FC03 ,  4G073FE10
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (3)

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