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J-GLOBAL ID：200903022378400243

感光性高分子製造方法

Inventor： 上原 正光 ,  谷口 誠 ,  北村 和彦 ,  石井 勲 ,  水間 功
Applicant, Patent owner： セイコーエプソン株式会社
Agent (1)： 鈴木 喜三郎 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992130258
Publication number (International publication number)：1993320227
Application date： May. 22, 1992
Publication date： Dec. 03, 1993
Summary：

【要約】【目的】酸クロリド基を側鎖に含む高分子とアミノ基または水酸基を側鎖に含む感光性分子との反応により感光性高分子を合成する。従来のモノマー重合では目的分子量の高分子は得られなかったが、反応性高分子と感光材料との反応により目的分子量の感光性高分子を合成する。【構成】下記の方法により感光性高分子を合成する。○は感光性材料を示す。【化1】

Claim (excerpt)：

高分子の側鎖に有する酸クロリド基と、アミノ基または水酸基を有する感光性材料の該アミノ基または水酸基との反応で合成されることを特徴とする、感光性高分子製造方法。

IPC (3)：

C08F 8/32 MHH ,  C08F 8/14 MGJ ,  G03F 7/038