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J-GLOBAL ID：200903022392812236

低電位還元水の製法とスケール除去方法

Inventor： 智原 保孝 ,  神谷 正征
Applicant, Patent owner： 株式会社原子力エンジニアリング ,  智原 保孝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998155336
Publication number (International publication number)：1999325796
Application date： May. 19, 1998
Publication date： Nov. 26, 1999
Summary：

【要約】【課題】 機器のスケール除去を行なう。【解決手段】 全てのスケールを薬品洗浄とはせず、水のみ低電位還元水で、しかも、アルカリ水(機器の腐食防止が目的)状態で、常温常圧で循環しながらスケール等除去する。水は、低電位(-700〜-800mV)の還元された水で少クラスタ状態にあり、pH管理の為のヒドラジン以外の薬品は使用せずに、スケールを除去する方法である。

Claim (excerpt)：

工業用水(蒸留水,逆浸透膜,水も含む)から純水をベースにした導電率約1μS/cmの条件下で、重貴金属を含まない酸化還元電位が(-)400mV以下の還元水を用いて、熱交換器,ボイラー,蒸気発生器,ストレーナ,機器等に付着したスケールから錆まで除去する方法。

IPC (4)：

F28G 9/00 ,  C02F 5/00 610 ,  C02F 5/00 ,  F22B 37/52

FI (5)：

F28G 9/00 L ,  C02F 5/00 610 B ,  C02F 5/00 610 F ,  C02F 5/00 610 E ,  F22B 37/52 A