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J-GLOBAL ID：200903022404753419

ヒドロゲルの製造方法

Inventor： 木口 浩史 ,  青山 拓 ,  和田 修
Applicant, Patent owner： セイコーエプソン株式会社
Agent (1)： 鈴木 喜三郎 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995126669
Publication number (International publication number)：1996319329
Application date： May. 25, 1995
Publication date： Dec. 03, 1996
Summary：

【要約】【目的】 ヒドロゲル表面を親水性化処理する。【構成】 ヒドロゲル表面を親水性ポリマーでグラフト重合する。プロセスは全工程乾式にて行う。【効果】 表面親水化ゲルは、乾燥状態の時は親水基の再結合による消滅が無く、含水状態にあっても親水基の内部へのもぐりこみ(回転拡散)が無い。したがって恒久的に表面の親水性を維持できる。また、全工程乾式にすることにより膨潤、乾燥のくり返しによるゲルの変形を抑制することができる。これらによりヒドロゲルの生体適合性材料への応用が広がり、非常に大きな効果がある。さらに、ヒドロゲルを表面処理する工程において、親水性モノマーを乾式処理によって表面グラフト重合する工程の前に、乾式処理によって反応性の官能基を導入する工程を有することにより、グラフト率が向上し、表面処理の効果を高めることができる。

Claim (excerpt)：

ヒドロゲルを表面処理する工程において、親水性モノマーを乾式処理によって表面グラフト重合する工程を有することを特徴とするヒドロゲルの製造方法。

IPC (2)：

C08F291/00 MPZ ,  G02C 7/04

FI (2)：

C08F291/00 MPZ ,  G02C 7/04