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J-GLOBAL ID：200903022407145193

フレネルレンズの製造方法

Inventor： 峯村 敏光 ,  福原 元彦 ,  飯ヶ浜 行生 ,  鈴木 敏弘 ,  吉見 琢也 ,  上島 邦敬
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 宇井 正一 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993040025
Publication number (International publication number)：1994250003
Application date： Mar. 01, 1993
Publication date： Sep. 09, 1994
Summary：

【要約】【目的】 フレネルレンズの製造方法に関し、プリズムのピッチが小さい場合でも無効面に確実に光吸収層を形成することができることを目的とする。【構成】 透明板12の少なくとも一面に複数のプリズム14が連続的に形成され、各プリズムが所定の傾斜で設けられた有効面16と実質的に光の透過に寄与しない無効面18とを有し、該無効面に光吸収層20が設けられたフレネルレンズの製造方法であって、複数のプリズムが形成されたフレネルレンズに複数のプリズムが形成されたフレネルレンズに光吸収層を塗布する工程と、複数のプリズムが形成されたフレネルレンズに感光性レジストを塗布し、そして露光、現像する工程を含み、レジストを露光する際の各プリズムの有効面と無効面との光の照射量の差を利用して無効面のみに光吸収層を設けることを特徴とする。

Claim (excerpt)：

透明板(12)の少なくとも一面に複数のプリズム(14)が連続的に形成され、各プリズムが所定の傾斜で設けられた有効面(16)と実質的に光の透過に寄与しない無効面(18)とを有し、該無効面に光吸収層(20)が設けられたフレネルレンズの製造方法であって、複数のプリズムが形成されたフレネルレンズに光吸収層または遮光層を塗布する工程と、感光性レジストを塗布し、そして露光、現像する工程とを含み、レジストを露光する際の各プリズムの有効面と無効面との光の照射量の差を利用して無効面のみに光吸収層を設けることを特徴とするフレネルレンズの製造方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭60-230601
  
• 特開昭62-251701