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J-GLOBAL ID：200903022471640300

エバネセント波侵入長の波長分散補正光学装置

Inventor： 木口 雅史 ,  加藤 美登里 ,  谷口 彬雄
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994236439
Publication number (International publication number)：1996101120
Application date： Sep. 30, 1994
Publication date： Apr. 16, 1996
Summary：

【要約】【目的】 スペクトル幅の広い光源を用いたときのエバネセント波の侵入長の波長依存性を抑制する。【構成】 分散素子を用いて、波長により入射角を変えることで、エバネセント波の侵入長の波長依存性を抑制する。回折格子などの分散素子と像を拡大縮小するレンズ系と全反射プリズムよりなる。【効果】 ATR分光装置や近接場顕微鏡の実効深さの波長による変化、解像度の変化等を低減する。

Claim (excerpt)：

スペクトル幅を有する光源を用いてエバネセント波を発生する機構を有する装置において、エバネセント波の侵入長の波長による変化を補正するために、分散素子を用いて、プリズムの全反射界面への入射角を波長により変えることを特徴とするエバネセント波侵入長の波長分散補正光学装置。

IPC (2)：

G01N 21/27 ,  G01N 37/00