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J-GLOBAL ID：200903022497696614
マイクロ波プラズマ処理装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
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Agent (1)：
井内 龍二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995148474
Publication number (International publication number)：1997007793
Application date： Jun. 15, 1995
Publication date： Jan. 10, 1997
Summary：
【要約】【構成】 マイクロ波発振器23とマイクロ波を伝送する導波管22と導波管22に接続された誘電体線路21と誘電体線路21に対向配置されたマイクロ波導入窓14を有する反応器11と反応器11内に配設された試料保持部15aと試料保持部15aに高周波を印加する高周波電源18とマイクロ波導入窓14と試料保持部15aとの間に設けられ、マイクロ波透過孔24aを有するアースされた導電体板24とを備えたプラズマ処理装置において、マイクロ波透過孔24aに誘電体板24が配設されているマイクロ波プラズマ処理装置。【効果】 フッ素系ガス等の腐食系のガスを使用してエッチング等の処理を行っても、マイクロ波導入窓14のエッチングを防止することができる。
Claim (excerpt)：
マイクロ波発振器と、マイクロ波を伝送する導波管と、該導波管に接続された誘電体線路と、該誘電体線路に対向配置されたマイクロ波導入窓を有する反応器と、該反応器内に配設された試料保持部と、前記マイクロ波導入窓と前記試料保持部との間に配設され、透過孔を有するアースされた電極とを備えたマイクロ波プラズマ処理装置において、前記透過孔に誘電体板が配設されていることを特徴とするマイクロ波プラズマ処理装置。
IPC (4)：
H05H 1/46
, C23C 16/50
, C23F 4/00
, H01L 21/3065
H05H 1/46 B
, C23C 16/50
, C23F 4/00 D
, H01L 21/302 C
