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J-GLOBAL ID：200903022502141111

2-(ビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-イル)-1,1-ジフルオロエチルスルフィン酸塩または2-(ビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-イル)-1,1-ジフルオロエチルスルホン酸塩およびそれらの製造方法

Inventor： 三村 英之 ,  平山 大輔 ,  徳久 賢治 ,  荒井 昭治
Applicant, Patent owner： 東ソ-・エフテック株式会社
Agent (3)： 岸田 正行 ,  水野 勝文 ,  高野 弘晋
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003102525
Publication number (International publication number)：2004307387
Application date： Apr. 07, 2003
Publication date： Nov. 04, 2004
Summary：

【課題】【課題】8個以上の炭素数を有する炭化水素部位、且つ適度な酸性度を有するジフルオロアルキルスルホン酸部位を有するスルホン酸化合物を提供する。【解決手段】一般式(1)【化1】(1)(式中、nは2または3、Mはアルカリ金属、アルカリ土類金属またはアンモニウムを表し、mは、Mが1価のカチオンの場合は1を表し、Mが2価のカチオンの場合は2を表す。)で示される2-(ビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-イル)-1,1-ジフルオロエチルスルフィン酸塩または2-(ビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-イル)-1,1-ジフルオロエチルスルホン酸。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

一般式(1)

IPC (3)：

C07C309/19 ,  C07C303/32 ,  C07C313/04

FI (3)：

C07C309/19 ,  C07C303/32 ,  C07C313/04

F-Term (10)：

4H006AA01 ,  4H006AA02 ,  4H006AB40 ,  4H006AB68 ,  4H006AB84 ,  4H006AB92 ,  4H006AC60 ,  4H006AC61 ,  4H006BE03 ,  4H006BE32

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 光配向性組成物、これから形成される配向膜とこの配向膜を具備した液晶表示素子
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-359446   Applicant：三星電管株式會社
• ポジ型フォトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-165862   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• N-スルホニルオキシイミド化合物およびそれを用いた感放射線性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-336666   Applicant：ジェイエスアール株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-321128   Applicant：富士写真フイルム株式会社