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J-GLOBAL ID：200903022531428187

マスク生成方法及びマスク生成装置並びに画像処理装置

Inventor： 佐藤 夏子
Applicant, Patent owner： ジーイー横河メディカルシステム株式会社
Agent (1)： 井島 藤治 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994308580
Publication number (International publication number)：1996167020
Application date： Dec. 13, 1994
Publication date： Jun. 25, 1996
Summary：

【要約】【目的】 しきい値の選択が容易で再処理を行なう必要が無く、少ない計算量で3Dイメージを生成することが可能なマスクを生成するマスク生成方法及びマスク生成装置並びに画像処理装置を実現する。【構成】 断層イメージデータについて複数の角度のそれぞれから見た場合に所定の値をとるピクセル位置を検出し、複数の角度から見た場合毎に前記検出されたピクセル位置について前記断層イメージデータに対応する容量を有するバッファの該当ピクセル位置にデータの加算を行なって頻度データを求める頻度処理手段4と、前記頻度バッファに格納された頻度データについて所定のしきい値処理により前記所定の値をとる確率の高いピクセルを残すようなマスクを生成し、生成されたマスクにより断層イメージデータに対してマスク処理を行なってマスク済み断層イメージデータを得るマスク処理手段6と、前記マスク処理手段で得られた複数のマスク済み断層イメージデータを用いて3Dイメージを生成する3Dイメージ生成手段7とを備えた画像処理装置。

Claim (excerpt)：

断層イメージデータについて複数の角度のそれぞれから見た場合に所定の値をとるピクセル位置を検出し、複数の角度から見た場合毎に前記検出されたピクセル位置について前記断層イメージデータに対応する容量を有する頻度バッファの該当ピクセル位置にデータの加算を行なって頻度データを求め、前記頻度バッファに格納された頻度データについて所定のしきい値処理により前記所定の値をとる確率の高いピクセルを残すようなマスクを生成することを特徴とするマスク生成方法。

IPC (4)：

G06T 1/00 ,  A61B 5/055 ,  A61B 6/03 360 ,  G01N 21/17

FI (2)：

G06F 15/62 390 B ,  A61B 5/05 380