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J-GLOBAL ID:200903022546481947

純水製造装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 重野 剛
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997119525
Publication number (International publication number):1998309575
Application date: May. 09, 1997
Publication date: Nov. 24, 1998
Summary:
【要約】【課題】 RO膜分離装置2と脱気装置4とを備える純水製造装置において、RO膜分離装置におけるスライム汚染による透過水量の低下を防止すると共に、脱気装置におけるTOC除去効率を高めることで、高純度の純水を効率的に製造する。【解決手段】 RO膜分離装置2に40〜45°Cの原水を給水する。【効果】 40〜45°Cの水では、直接的な殺菌作用はないが、スライムの付着抑制には効果があるため、RO膜分離装置のスライム汚染を防止できる。加温により透過水量も向上するため、RO膜分離装置の運転圧力を低くすることができることからもスライムの付着が防止される。40〜45°Cに加温することで、脱気装置において、RO膜分離装置や後段のイオン交換装置では除去し難い揮発性有機物を除去することが可能となり、結果として処理水のTOCが低減する。
Claim (excerpt):
逆浸透膜分離装置及び脱気装置を備える純水製造装置において、該装置に40〜45°Cの原水を供給する給水手段を設けたことを特徴する純水製造装置。
IPC (8):
C02F 1/44 ,  B01D 19/00 ,  C02F 1/20 ,  C02F 1/42 ,  C02F 9/00 502 ,  C02F 9/00 ,  C02F 9/00 503 ,  C02F 9/00 504
FI (11):
C02F 1/44 H ,  C02F 1/44 C ,  B01D 19/00 H ,  C02F 1/20 A ,  C02F 1/42 A ,  C02F 9/00 502 A ,  C02F 9/00 502 F ,  C02F 9/00 502 J ,  C02F 9/00 502 Z ,  C02F 9/00 503 B ,  C02F 9/00 504 B

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