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J-GLOBAL ID:200903022589791427

2-ホスホノブタン-1,2,4-トリカルボン酸並びにアニオンポリマーを用いた、水性系におけるシリカ/ケイ酸塩析出の制御方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 岡部 正夫 (外6名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1991269605
Publication number (International publication number):1993104093
Application date: Oct. 17, 1991
Publication date: Apr. 27, 1993
Summary:
【要約】【構成】 2-ホスホノブタン-1,2,4-トリカルボン酸の有効量、好ましくは少なくとも0.1ppm 並びに、所望によりアニオンポリマー、好ましくはカルボン/スルホンポリマー、又はその塩を被処理水性系に添加することにより該水性系におけるシリカ/ケイ酸塩析出物の形成を制御する方法。ホウ酸又はモリブデン酸イオン源も併せて添加することができる。【効果】 水性系におるけシリカ/ケイ酸塩の析出を有効に制御することができる。
Claim (excerpt):
水性系に2-ホスホノブタン-1,2,4-トリカルボン酸又はその塩の有効量を添加することを特徴とする水性系におけるシリカ/ケイ酸塩析出の制御方法。
IPC (4):
C02F 5/14 ,  C02F 5/08 ,  C02F 5/10 ,  C02F 5/12
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • 特開平2-031894

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