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J-GLOBAL ID:200903022613151370

酸化チタン薄膜の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 渡邉 勇 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996216082
Publication number (International publication number):1998046317
Application date: Jul. 29, 1996
Publication date: Feb. 17, 1998
Summary:
【要約】【課題】 過酸化水素水溶液からのディップ法により、膜厚が均一でかつ高精度で制御可能であるような酸化チタン薄膜の製造方法を提供する。【解決手段】 基板をアモルファス酸化チタンの過酸化水素水溶液中に浸漬させ、さらに熱処理を行なうことによって該基板の表面に酸化チタン薄膜を形成する方法において、前記アモルファス酸化チタンの過酸化水素水溶液の粘度を3cp以下とすることにより、基板面内で厚さの均一な薄膜を得る。
Claim (excerpt):
基板をアモルファス酸化チタンの過酸化水素水溶液中に浸漬させ、さらに熱処理を行なうことによって該基板の表面に酸化チタン薄膜を形成する方法において、前記アモルファス酸化チタンの過酸化水素水溶液の粘度を3cp以下とすることにより、基板面内で厚さの均一な薄膜を得ることを特徴とする酸化チタン薄膜の製造方法。
IPC (4):
C23C 8/10 ,  B01J 19/00 ,  C01G 23/04 ,  C03C 17/25
FI (4):
C23C 8/10 ,  B01J 19/00 K ,  C01G 23/04 C ,  C03C 17/25 A

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