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J-GLOBAL ID:200903022615402752

低損失光導波路及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 絹谷 信雄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994247435
Publication number (International publication number):1996110424
Application date: Oct. 13, 1994
Publication date: Apr. 30, 1996
Summary:
【要約】【目的】 クラッドとコアとの間の屈折率差の制御が容易で、屈折率差を大きくとっても損失が増加しない低損失光導波路及びその製造方法を提供する。【構成】 基板10上に形成され低屈折率を有する下部クラッド層11と、下部クラッド層11の上に形成されたコア12と、コア12を覆う上部クラッド層13とからなる光導波路において、下部クラッド層11及び上部クラッド層13を、フッ素化合物を添加したSiO2 系材料で構成したことを特徴としている。
Claim (excerpt):
基板上に形成され低屈折率を有する下部クラッド層と、該下部クラッド層の上に形成されたコアと、該コアを覆う上部クラッド層とからなる光導波路において、上記下部クラッド層及び上記上部クラッド層を、フッ素化合物を添加したSiO2 系材料で構成したことを特徴とする低損失光導波路。
IPC (2):
G02B 6/12 ,  G02B 6/13
FI (2):
G02B 6/12 N ,  G02B 6/12 M

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