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J-GLOBAL ID：200903022670254800

マイクロメカニカル静電形リレー

Inventor： ヘルムート シュラーク ,  ハンス-ユルゲン ゲヴァッター ,  ロタール キーゼヴェッター ,  ヨアヒム シムカート
Applicant, Patent owner： シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト
Agent (1)： 矢野 敏雄 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995269818
Publication number (International publication number)：1996255546
Application date： Oct. 18, 1995
Publication date： Oct. 01, 1996
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 緩慢な接触形成を阻止して、接点の開閉を迅速にする。【解決手段】 マイクロメカニカル静電形リレーは、一方では基体電極11と基体接点13を有する基体サブストレートを備え、他方では自由にエッチングされた、基体サブストレートから離反されるようにわん曲された接極子弾性舌状体2を備えている。この舌状体は接極子電極5と接極子接点7を有する。両方の電極5,7の間に制御電圧を印加すると、弾性舌状体は基体サブストレート上で直線化し、最後に弾性舌状体は伸長されて両方の接点7と11が接触する。両方の電極5,11の間のくさび状の空隙の中に幾何学的な不連続が設けられている。この不連続は、部分的にわん曲され部分的に直線の形状を弾性舌状体に付与することにより、電極始端を弾性体クランプ個所からずらすことにより、および/または弾性体クランプ個所と基体電極との間の空隙により形成される。

Claim (excerpt)：

マイクロメカニカル静電形リレーであって、該リレーは基体サブストレート(10)を有し、該基体サブストレートは1つの基体電極層(11;63,83)と少なくとも1つの基体接点(13)を支持し、さらに該基体サブストレート上に設けられている接極子サブストレート(1)を有し、該接極子サブストレートは少なくとも1つの切欠部ないし凹部を施すように加工された、接極子弾性舌状体(2;41,61,81)を有し、該弾性舌状体は1つの接極子電極層(5;62,82)および、その自由端部において接極子接点(7)を支持し、前記弾性舌状体(2;41;81)は休止状態においては連続的なわん曲により基体サブストレート(10)から離れるようにわん曲されて、そのため両方の電極(5,11;62,63;82,83)は相互の間にくさび状の空隙(14)を形成し、他方、弾性舌状体(2;41;61;81)は動作状態において電極間に電圧が加えられると基体サブストレート(10)へ適合的に密着し、さらに両方の接点(7,13)は相互に当接し合う形式のマイクロメカニック静電形リレーにおいて、電極間のくさび状の空隙(14)が少なくとも1つの幾何学的不連続性部分を有することを特徴とする、マイクロメカニカル静電形リレー。

IPC (2)：

H01H 59/00 ,  H01L 21/3065

FI (2)：

H01H 59/00 ,  H01L 21/302 J