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J-GLOBAL ID：200903022694599205

イオン発生装置

Inventor： 河村 典彦 ,  山内 俊幸 ,  荒木 一弘
Applicant, Patent owner： 松下電工株式会社
Agent (1)： 西川 惠清 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998333508
Publication number (International publication number)：1999265780
Application date： Nov. 25, 1998
Publication date： Sep. 28, 1999
Summary：

【要約】【課題】 650nm以下のイオン粒子をイオン発生装置から供給することにより、効果的に滝と同じ生理効果を持たせることができ、しかも装置が小さく低騒音のイオン発生装置を得る。【解決手段】 粒径が650nm以下の微細水を空気イオンと衝突帯電させる装置を備えている。肺胞に到達できる粒径が650nm以下のイオン粒子を生成することができ、肺胞で毛細血管から血液に取り込まれ人体に有害の活性酸素を除去したり、肺胞の粘膜を刺激し、求心性線維を伝って直接自律神経に作用することとなり、血圧降下や精神高揚などの生理作用が引き起こされ、滝と同じ生理効果を持たせることができる。

Claim (excerpt)：

粒径が650nm以下の微細水を空気イオンと衝突帯電させる装置を備えていることを特徴とするイオン発生装置。

IPC (4)：

H01T 23/00 ,  A61M 11/02 ,  A61N 1/44 ,  F24F 7/00

FI (4)：

H01T 23/00 ,  A61M 11/02 Z ,  A61N 1/44 ,  F24F 7/00 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開昭59-194749
  
• 特開昭62-197071
  
• フィトンチッドを含有する陰イオンの製造方法とその製造装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-314886   Applicant：株式会社泉研究所
• 特開昭49-029993